关于不针对发明点进行回避的讨论

请教大家一个问题：
比如一个专利保护如下：一种甲物体，包括A，其特征是还设有B。
A为公知技术，并且该权利要求对A有一定的限制。如果仅对A特征进行结构改进，能否回避该专利？

如果在先的申请中对A的改进或限制与后来要保护的技术方案一样，那么肯定破坏后神情的新颖性和创造性了，如果不一样，为什么要回避呢？

小丫头 wrote:
如果在先的申请中对A的改进或限制与后来要保护的技术方案一样，那么肯定破坏后神情的新颖性和创造性了，如果不一样，为什么要回避呢？

也就是说一个物体包括A+B,其主要发明点在B,A为前叙部分(公知技术),B为特征部分,但A有限制条件,
问题是:突破A的限制条件,也就是如果回避方案(仍有B结构)成功回避掉了A结构的限制条件,是否能回避掉该专利了.

对

还需要判断代替A的方案是不是可以适用等同，即基本相同的手段、实现基本相同的功能，达到基本相同的效果，所属技术人员容易联想到。

如果不等同，那么就不侵权了。

“A为公知技术，并且该权利要求对A有一定的限制。如果仅对A特征进行结构改进，能否回避该专利？ ”
这要看改进后的“A特征结构”是否符合权利要求对A的限制，如符合则仍然侵权，这时若你也就改进的方案申请了专利，就构成了从属专利，也就是对其专利进行了改进，你可以禁止其实施你的专利，但你实施自己的专利也得获得对方的授权。